窒化ケイ素セラミック

窒化ケイ素セラミックは、世界のGG＃39で最もタフな製品の1つです。 高電圧強度、低密度、高温性能などの優れた特性を備えています。 それはシリコン粉末から始まり、従来通りに成形し、次に窒素中で1,200°Cの高温で予備窒化を行い、シリコン粉末の一部が窒素と結合して窒化ケイ素を生成します。 全身にはすでにある程度の力があります。 次に、高温炉内で1,350℃〜1,450℃の温度で再度窒化し、反応させて窒化ケイ素（Si3N4）を形成します。 一般的な製造方法は、ホットプレスとガス圧焼結です。

Si3N4セラミックは一種の共有結合化合物です。 [SiN4]四面体は基本的な構造構造です。 この配置は、窒化ケイ素の多くの特性が評価されています。 優れた高温技術材料としてのエンジニアリングセラミック窒化ケイ素は、高温用途でその利点を十分に活用します。 高温への耐性が高く、1200℃までの温度に耐え、強度を損なうことなく、加熱しても溶けません。 溶融物は、1,900°Cの温度に達するまで分解しません。 一方、Si3N4 GG＃39は理論密度が低く、鋼よりも大幅に軽量であり、超耐熱合金鋼を設計しているため、高強度、低密度、高強度の合金鋼の代わりに使用できます。耐熱性が必要です。 これ以上適切なことはありません。 さらに、窒化ケイ素高温セラミックは、30％未満のほとんどすべての無機酸と苛性ソーダ溶液、および多種多様な有機酸の腐食に耐える、並外れた化学的腐食耐性を示します。 また、高性能の電気絶縁媒体でもあります。

窒化ケイ素は重要な構造物質です。 それは、滑らかで耐摩耗性のある非常に丈夫な複合材料です。 フッ化水素酸を除いて、ほとんどの無機酸に対して不活性です。 腐食に対する耐性が高く、高温の影響を受けません。 アクティベーション。 さらに、それは寒さと太陽の影響に耐性があります。 空気中で1,000°Cに加熱され、急速に冷却され、その後急速に加熱されるまで、壊れることはありません。 窒化ケイ素Si3N4は非常に優れた特性を備えているため、ベアリング、ベアリングボール、ガスタービンブレード、メカニカルシールサークル、永久金型、加熱チューブ、ライザーチューブ、熱電対安全チューブ、溶接ピン、基板の製造によく使用されます。とりわけ。

材料特性（GPSN）

注：提示されたデータの正確性を疑う理由はありませんが、この情報は比較のためにのみ提供されています。 正確な特性は、製造方法や部品構成によって異なり、特定の要件を満たすように調整できる場合もあります。

代表的なアプリケーション

プロジェクション溶接

低圧ダイカスト

発熱体

ベアリングGGアンプ; バルブボール

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